一:在鍋爐水的治理過程中,對硅的參數(shù)要求主要是針對鍋爐及節(jié)能方面。
硅是造成鍋爐及整個系統(tǒng)結(jié)垢的主要原因之一,結(jié)垢機理如下:
H2SiO3 ---> H++HSiO3-
MgOH++HSiO3----> MgSiO3+H2O
造成結(jié)垢的主要原因是:給水中鐵,鋁,硅的化合物含量高,形成硅酸鐵等垢。
NaSiO3+Fe3O4--> Na2Fe3O4.SiO2
1.2:硅酸鹽容易結(jié)垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發(fā)器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環(huán)不良的爐管,火側(cè)的結(jié)垢比背火側(cè)嚴重,結(jié)垢后對鍋爐拱能系統(tǒng)造成的影響有:造成能源的浪費,容易形成垢下腐蝕,甚至爆管等安全現(xiàn)象。
防止的方法:降低給水中硅,鋁和其它氧化物含量;提高爐水pH,減小硅酸的溶解攜帶;定期檢測硅酸根含量
1.3:硅酸根分析儀是一種其干微外理器的比色分析儀,可以依次對6個的獨立流路進行采樣分析測量,被分析的樣水在一個固定的環(huán)路內(nèi)
環(huán)流,并能使樣水得到快速更新,流量的調(diào)節(jié)借助干一個閥門來實現(xiàn)。在分析的開始,樣水借助干一個電磁閥被引入測量槽內(nèi),用微
脈沖泵依次加入各種試劑,在反應(yīng)結(jié)束時執(zhí)行光度計測量,進而轉(zhuǎn)換成硅酸根離子的濃度輸出。
二:隨著電廠的規(guī)定標準和除鹽凈水工程要求的提高,對硅酸根監(jiān)測的時效性和準確性也大幅提高。為此,沃懋推出的T6060型硅酸根分析儀(Silica Analyzer),采用鼓氣式液壓加藥方式,冷光源分光測量,無死體積反應(yīng)池,保證了儀表測量的準確性、可靠性。儀表外型結(jié)構(gòu)如圖所示。
2.1:儀器特點:
? 采用鼓氣式液壓加藥方式,可實現(xiàn)精準計量;
? 冷光源分光測量,延長了光源的使用壽命;
? 自動調(diào)節(jié)光源的光強,光源衰減后也可保證儀表測量的準確度;
? 自動控制反應(yīng)溫度,恒溫測量和校準;
? 大容量的存儲器,可保存6年測量數(shù)據(jù);
? 真彩色液晶屏,操作、顯示更加直觀;
? 6路隔離的電流輸出,可配置到任意通道、任意量程或PID;
? 6路繼電器輸出,可配置為超限報警、斷樣報警或系統(tǒng)故障報警;
? RS485接口,可配置9600bps到57.6kbps,實現(xiàn)遠程數(shù)據(jù)監(jiān)測;
? 可查詢?nèi)我鈺r間段內(nèi)的曲線和測量報警。
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